项目名称: 湖北省总投资约2.4亿元科技园建设项目
项目描述: 武汉光谷激光科技园(一期)项目,建设地点位于武汉市东湖新技术开发区未来科技城高新大道以南、科技三路以北、未来三路以西、泉井东路以东区域,新建1#楼研发中心,2#楼特种光纤试验楼,3#楼激光芯片试验楼,4#楼氢氮氧供气站,5#楼动力中心及门房,进行高功率半导体激光器芯片、单光子源及特种光纤的研发生产。投资额23536万元。
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